Integration:配線構造,配線性能,配線間容量,信頼性関連技術,評価・解析技術 など
Reliability Science and Failure Analysis:EM,SIV,TDDB,欠陥検査,モデリング など
Metallization:成膜技術(PVD,CVD,ALD,めっき),バリアメタル,シード,超臨界,リフロー など
Low-k Dielectric:成膜方法(CVD,ALD,SOD),膜,界面,新材料,構造(Air gap 他),評価技術 など
CMP:平坦化,スラリー,パッド,ドレス,洗浄,防食 など
Contact:シリサイド,浅接合,界面,固相反応,結晶物性,電子物性,寄生抵抗など
MEMS/RF:配線構造・材料,パッケージング,製造プロセス、デバイスなど
Emerging Technology:アクティブ配線,パワーエレクトロニクス,シリコンフォトニクス,フレキシブルエレクトロニクス,エネルギーハーベスティング など
Backend Devices :多層配線混載デバイス(MRAM,PCRAM,ReRAM),電極技術,磁性・相変化・抵抗変化材料,プロセス など
Nanocarbon Interconnects:グラフェン,ナノチューブ,プロセス,インテグレーション,信頼性 など
3D and Packaging :TSV,TMV,形成プロセス,積層プロセス(COW,WOW,薄化・平坦化,接着,バンプ,応力,熱解析,封止,冷却,信頼性 など
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