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 ADMETAPlus 2017について
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Advanced Metallization Conference 2017
27th Asian Session
 Conference Topics of Interest

Integration:配線構造,配線性能,配線間容量,信頼性関連技術,評価・解析技術 など

Reliability Science and Failure AnalysisEMSIVTDDB,欠陥検査,モデリング など

Metallization:成膜技術(PVDCVDALD,めっき),バリアメタル,シード,超臨界,リフロー など

Low-k Dielectric:成膜方法(CVDALDSOD),膜,界面,新材料構造(Air gap 他),評価技術 など

CMP:平坦化,スラリー,パッド,ドレス,洗浄,防食 など

Contact:シリサイド,浅接合,界面,固相反応,結晶物性,電子物性,寄生抵抗など

MEMS/RF:配線構造・材料,パッケージング,製造プロセス、デバイスなど

Emerging Technology:アクティブ配線,パワーエレクトロニクス,シリコンフォトニクス,フレキシブルエレクトロニクス,エネルギーハーベスティング など

Backend Devices :多層配線混載デバイス(MRAMPCRAMReRAM),電極技術,磁性・相変化・抵抗変化材料,プロセス など

Nanocarbon Interconnects:グラフェン,ナノチューブ,プロセス,インテグレーション,信頼性 など

3D and Packaging TSV,TMV,形成プロセス積層プロセス(COW,WOW薄化・平坦化,接着,バンプ,応力,熱解析,封止,冷却,信頼性 など














 
 

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